清洗封裝產(chǎn)品面臨哪些挑戰(zhàn)？

先進(jìn)封裝工藝正朝著更高密度的方向迅速發(fā)展。不同于傳統(tǒng)的SMT表面貼裝，封裝技術(shù)如倒裝芯片、2.5D/3D TSV硅通孔、BGA植球、MEMS、QFN和晶圓級(jí)封裝等都有復(fù)雜的結(jié)構(gòu)和微小的間隙，制造過程中產(chǎn)生的殘留物（如助焊劑、粉塵等）更難以去除。因此為了達(dá)到符合要求的清潔度，必須制定合適的清洗工藝。清洗的初衷是去除污染物，但要達(dá)到理想的清洗結(jié)果會(huì)面臨以下挑戰(zhàn)：

1. 尺寸和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性

先進(jìn)封裝產(chǎn)品通常具有非常小的尺寸和復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，例如微型芯片、微型線路和微細(xì)間距。這使得清洗過程需要在極限條件下進(jìn)行。合適的清洗液具有較低的表面張力才能進(jìn)入低間隙，確保所有表面和間隙都能夠被有效清洗。

2. 助焊劑變化

隨著錫球尺寸的減小，助焊劑的比例增加。同時(shí)，助焊劑類型也在從極性助焊劑或半極性助焊劑向非極性助焊劑的發(fā)展。為了適應(yīng)助焊劑的變化，清洗劑需要添加能夠有效清洗非極性助焊劑的成分，以具備快速去除助焊劑殘留物的條件。

3. 材料兼容性

封裝產(chǎn)品通常由多種不同的材料組成，包括鋁，銅，鎳、陶瓷、塑料和橡膠材料等。這些材料對(duì)清洗劑的耐受性和清洗效果有不同的要求，因此選擇合適的清洗劑要求兼容封裝產(chǎn)品中的現(xiàn)有材料。

4. 起泡問題

在封裝清洗工藝的制程中，考慮到器件的可靠性和安全性，大部分客戶首選噴淋清洗工藝。而工藝中噴淋清洗機(jī)的大流量高壓力對(duì)于清洗劑的起泡性質(zhì)十分介意，所以合適的清洗劑需要具有更好更有效的抑制泡沫的配方。

5. 清洗工藝的優(yōu)化

清洗封裝產(chǎn)品需要考慮多個(gè)參數(shù)，如清洗劑的濃度、溫度、時(shí)間和機(jī)械力等。優(yōu)化清洗工藝以確保徹底清潔并避免對(duì)產(chǎn)品造成損害是一項(xiàng)復(fù)雜的任務(wù)，離不開經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)支持人員提供穩(wěn)定的服務(wù)。

作為精密電子清洗領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者， ZESTRON在先進(jìn)封裝清洗領(lǐng)域積累了大量的成功經(jīng)驗(yàn)。ZESTRON專門設(shè)計(jì)的水基型和溶劑型清洗工藝為各種先進(jìn)封裝工藝提供了理想的解決方案。無論您的清洗需求是什么，ZESTRON都能為您的先進(jìn)封裝清洗工藝提供完美的保障！

【第七屆Sip China邀請(qǐng)】

ZESTRON將于8月24日出席第七屆中國(guó)系統(tǒng)級(jí)封裝大會(huì)Sip China, 并發(fā)表《先進(jìn)封裝產(chǎn)品清洗工藝》。ZESTRON誠(chéng)摯邀請(qǐng)您前往赴會(huì)，與我們一道交流探討封裝清洗的疑難雜癥！