上海新陽、容大感光等企業(yè)光刻膠最新動態(tài)披露

光刻膠是半導體制作的關鍵材料，被譽為電子化學品產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”。其能夠利用光化學反應，經(jīng)過曝光、顯影等光刻工藝，將所需微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上。半導體光刻膠品種眾多，包括EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠、I/G線光刻膠。

就現(xiàn)狀看，業(yè)界指出，我國光刻膠國產(chǎn)化率較低，供應鏈依舊存在著較大的不穩(wěn)定現(xiàn)象，G/I線國產(chǎn)化率為10%，高端的KrF、ArF 國產(chǎn)化率不足5%。近日，多家企業(yè)光刻膠傳來最新動態(tài)，進一步推動國產(chǎn)化步伐。

上海新陽增資浙江新盈，強化光刻膠業(yè)務布局

3月15日，上海新陽發(fā)布公告稱公司擬以增資方式投資浙江新盈電子材料有限公司（以下簡稱“浙江新盈”）。

據(jù)悉，浙江新盈設立時注冊資本金為3500萬元，現(xiàn)上海新陽認繳出資500萬元對該公司增資。此次增資完成后，公司直接持有浙江新盈12.5%的股份。據(jù)悉，浙江新盈具有光刻膠樹脂等原材料產(chǎn)品研發(fā)團隊，具備光刻膠樹脂等原材料研發(fā)、生產(chǎn)工藝技術及質量管控、客戶技術服務能力等專有技術。

上海新陽表示，根據(jù)公司未來業(yè)務擴展需要，公司擬增資浙江新盈，有利于公司光刻膠產(chǎn)品業(yè)務的縱深發(fā)展，符合公司的戰(zhàn)略目標，助力我國半導體領域關鍵工藝材料產(chǎn)業(yè)鏈早日貫通并規(guī)?；慨a(chǎn)。

上海新陽3月14日晚間發(fā)布年報，同時公司將調整高端光刻膠項目，并新增投資“ArF浸沒式光刻膠研發(fā)項目”及“償還項目貸款”。

財報數(shù)據(jù)方面，2023年該公司實現(xiàn)營業(yè)收入12.12億元，同比增長1.4%；凈利潤1.67億元，同比增長213.41%，扣非后凈利潤實現(xiàn)1.23億元，同比增長10.27%。其中海新陽半導體行業(yè)實現(xiàn)營業(yè)收入7.68億元，同比增長20.06%。

具體產(chǎn)品來看，在集成電路制造用清洗液產(chǎn)品方面，上海新陽28nm干法蝕刻后清洗液產(chǎn)品已規(guī)?；慨a(chǎn)，14nm技術節(jié)點干法蝕刻后清洗液也已量產(chǎn)并實現(xiàn)銷售，該公司干法蝕刻后清洗液產(chǎn)品已經(jīng)實現(xiàn)14nm及以上技術節(jié)點全覆蓋。

另外，上海新陽光刻膠項目研發(fā)進展順利，I線、KrF光刻膠產(chǎn)品工藝性能指標不斷優(yōu)化提升，滿足客戶的工藝需求。目前光刻膠已具備量產(chǎn)能力，在超20家客戶端提供樣品進行測試驗證。報告期內(nèi)光刻膠系列產(chǎn)品已實現(xiàn)營業(yè)收入400余萬元；化學機械研磨液已有多款產(chǎn)品通過客戶測試，實現(xiàn)銷售。

從募投項目進展來看，上海新陽“集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項目”（以下簡稱“高端光刻膠項目”）本期投資進度為19.15%，累計實現(xiàn)效益1.52億元。同日，公司公告變更高端光刻膠項目部分募集資金用途，用于新增項目“ArF浸沒式光刻膠研發(fā)項目”及“償還項目貸款”，同時對高端光刻膠項目預計完成時間進行調整，并將“集成電路關鍵工藝材料項目”結項。

具體來看，為提高募集資金的使用效率，上海新陽計劃將高端光刻膠項目募投金額從4.26億元調減至1.81億元，其中，調減的約2.45億元用于新增的“ArF浸沒式光刻膠研發(fā)項目”以及“償還項目貸款”項目，變更涉及金額占募集資金凈額比例為31.07%。

據(jù)介紹，高端光刻膠項目主要開發(fā)集成電路制造中ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3DNAND（閃存，屬于非易失性存儲器）臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品。截至2023年12月31日，該項目中的“KrF厚膜光刻膠”項目已經(jīng)達到預定可使用狀態(tài)，產(chǎn)品已經(jīng)通過客戶認證，取得訂單并產(chǎn)生銷售收入；“ArF干法光刻膠”項目的產(chǎn)線已經(jīng)投入運行，產(chǎn)品仍在客戶認證階段，研發(fā)工作還在進行，因此公司決定調減項目擬募投資金。

另一方面，本次新增的“ArF浸沒式光刻膠研發(fā)項目”于2020年在公司立項，項目預計投資總額為4.2億元，主要針對193nmArF浸沒式光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)，目前已進入關鍵研發(fā)階段，擬使用募集資金投入1.65億元。

容大感光：光刻膠產(chǎn)品滿足0.35μm及以上線寬需求

近日容大感光獲12家機構調研，提及半導體用光刻膠收入及布局時表示，公司2023年前三季度累計實現(xiàn)營業(yè)收入57,804.68萬元，其中，顯示用光刻膠及半導體用光刻膠銷售額占公司總銷售額的比例較小。目前看，顯示用光刻膠及半導體用光刻膠國產(chǎn)化率較低，未來幾年，國內(nèi)光刻膠廠商實現(xiàn)技術突破并實現(xiàn)進口替代的空間仍然巨大。

據(jù)悉，容大感光半導體用光刻膠主要客戶有揚杰科技、華微電子等企業(yè)，該公司表示，半導體用光刻膠有部分原材料仍需要進口，若被限制采購，公司將使用替代方案保證供應鏈的安全。

目前容大感光半導體光刻膠產(chǎn)品主要為g線光刻膠和i線光刻膠，主要應用于半導體分立器件、集成電路產(chǎn)品生產(chǎn)流程中的光刻工藝，具備耐熱性好、刻蝕效率較高的特點。光刻膠行業(yè)的技術壁壘較高，并且下游產(chǎn)業(yè)對產(chǎn)品性能要求不斷提升，為保持公司的核心競爭優(yōu)勢，未來公司將會持續(xù)保持產(chǎn)品研發(fā)投入力度，不斷提高產(chǎn)品性能，豐富產(chǎn)品體系。3月12日，容大感光在互動平臺表示，公司目前可以用于芯片制程的i線光刻膠可以滿足0.35μm及以上線寬的光刻需求。

彤程新材：子公司光刻膠項目已逐步進入試生產(chǎn)

彤程新材2023年末官方表示，年產(chǎn)1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目工程階段已竣工，目前已逐步進入試生產(chǎn)階段。

據(jù)悉，該公司上海化學工業(yè)區(qū)工廠占地36200平方米，設計能力年產(chǎn)1千噸半導體光刻膠、1萬噸顯示用光刻膠和2萬噸高純EBR試劑（光刻膠去邊劑）。同時在國際國內(nèi)半導體廠商及光刻膠廠商戰(zhàn)略合作推動下，完成了產(chǎn)線優(yōu)化及品控升級。此前公告，公司決定通過全資子公司上海彤程電子材料有限公司在上?；瘜W工業(yè)區(qū)投資建設該項目。

據(jù)悉，彤程新材上海化學工業(yè)區(qū)工廠年產(chǎn)1千噸半導體光刻膠量產(chǎn)產(chǎn)線，主要包括年產(chǎn)300/400噸ArF及KrF光刻膠量產(chǎn)產(chǎn)線，通過采用超高純PFA（涂層）設備、引入高精度物料流量控制系統(tǒng)、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統(tǒng)，可以實現(xiàn)ppt級金屬雜質及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產(chǎn)能力。

在ArF光刻膠產(chǎn)品方面，該公司已經(jīng)完成ArF光刻膠部分型號的開發(fā)，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產(chǎn)品，已具備量產(chǎn)能力，目前處于量產(chǎn)前的光刻工藝測試及產(chǎn)品驗證階段，能否驗證通過尚存在一定的不確定性。產(chǎn)能可同時供應國內(nèi)大部分芯片制造商，能較好地滿足國內(nèi)先進制程光刻膠的部分需求。

彤程新材表示，公司G線光刻膠已經(jīng)占據(jù)國內(nèi)較大的市場份額；I線光刻膠已廣泛應用于國內(nèi)6"、8"、12"集成電路產(chǎn)線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產(chǎn)品種達20種以上，穩(wěn)定供應國內(nèi)頭部芯片制造商。

總投資2.2億元的PCB光刻膠等項目簽約落戶湖南

3月11日，奧誠電子PCB光刻膠等產(chǎn)品生產(chǎn)項目簽約落戶湖南省長沙市望城經(jīng)開區(qū)。項目總投資2.2億元，計劃周期為18個月，主要建設12000噸/年PCB用光刻膠生產(chǎn)項目生產(chǎn)線等。項目全面投產(chǎn)后，預計實現(xiàn)年產(chǎn)值4億元。

公開資料顯示，奧誠電子成立于2009年，是一家集PCB用光刻膠生產(chǎn)、銷售、研發(fā)于一體的高科技技術企業(yè)，產(chǎn)品主要服務于新能源汽車、電子產(chǎn)品、智能制造等領域。奧誠電子率先在全國推出的LDI光刻膠，實現(xiàn)了國產(chǎn)零的突破，是國內(nèi)目前能滿足市場質量需求PCB用LDI光刻膠僅有的3家生產(chǎn)企業(yè)之一。