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晶圓制造

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  • 通俗理解晶圓制造中的離子注入機(jī)臺(tái)
    通俗理解晶圓制造中的離子注入機(jī)臺(tái)
    離子注入過(guò)程就像是一個(gè)高速公路上的投射系統(tǒng)，從離子源開始“起步”，通過(guò)加速和質(zhì)量分離進(jìn)行挑選，經(jīng)過(guò)加速通道達(dá)到高速，然后通過(guò)鏡頭和偏轉(zhuǎn)裝置精準(zhǔn)瞄準(zhǔn)，最終將晶圓作為終點(diǎn)，精準(zhǔn)完成摻雜。
  • 晶圓工藝優(yōu)化或失效分析相關(guān)術(shù)語(yǔ)
    晶圓工藝優(yōu)化或失效分析相關(guān)術(shù)語(yǔ)
    “Defect”指的是在晶圓生產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)的缺陷，可能是由于工藝不穩(wěn)定、設(shè)備問(wèn)題或材料瑕疵導(dǎo)致的。這些缺陷可能包括顆粒污染、圖形失真、晶體結(jié)構(gòu)破損等，都會(huì)影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量。
  • TiN薄膜為什么可以作為抗反射層（ARC）？
    學(xué)員問(wèn)：氮化鈦除了做阻擋層還有哪些作用？一般用什么方式沉積的呢？TiN的作用？在晶圓制造中，TiN主要用3個(gè)作用：1. 阻擋層：主要用于防止金屬的擴(kuò)散。? ?在半導(dǎo)體制造中，金屬如Cu，Al?容易擴(kuò)散到硅基底中。TiN可以作為一種有效的物理屏障，防止金屬擴(kuò)散到硅中。
  • 晶圓制造中的真空計(jì)概念、分類、應(yīng)用
    晶圓制造中的真空計(jì)概念、分類、應(yīng)用
    真空計(jì)是用于探測(cè)真空系統(tǒng)中氣體壓力的儀器，它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域。在這些應(yīng)用中，不同種類的真空計(jì)用于測(cè)量不同的真空水平，以確保系統(tǒng)內(nèi)的氣體壓力保持在指定的范圍內(nèi)。理解真空計(jì)的工作原理和選擇適合的真空計(jì)對(duì)精確控制工藝至關(guān)重要，特別是在半導(dǎo)體制造中，許多關(guān)鍵工藝需要在特定的真空條件下進(jìn)行，如蝕刻、沉積等。
  • 晶圓生產(chǎn)中工藝參數(shù)監(jiān)控和測(cè)試相關(guān)的術(shù)語(yǔ)
    晶圓生產(chǎn)中工藝參數(shù)監(jiān)控和測(cè)試相關(guān)的術(shù)語(yǔ)
    在晶圓生產(chǎn)中，"Monitor"指的是對(duì)設(shè)備、工藝或產(chǎn)品進(jìn)行實(shí)時(shí)或定期的監(jiān)控，以確保其處于正常的運(yùn)行狀態(tài)。例如，某些設(shè)備或工藝步驟需要通過(guò)"monitor"數(shù)據(jù)來(lái)判斷是否可以繼續(xù)生產(chǎn)。Monitor數(shù)據(jù)通常包括溫度、壓力、化學(xué)品濃度等關(guān)鍵參數(shù)。