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刻蝕設(shè)備

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刻蝕設(shè)備的發(fā)展和光刻技術(shù),互連技術(shù)密切相關(guān)。High K / Low K材料,銅互連,Metal Gate,double Pattern等技術(shù)的發(fā)展都對刻蝕設(shè)備提出了新的需求·

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    尊重知識產(chǎn)權(quán)和打造差異化競爭優(yōu)勢是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當(dāng)前,低價競爭導(dǎo)致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙,它削弱了設(shè)備企業(yè)的研發(fā)能力,阻礙了技術(shù)的迭代升級。半導(dǎo)體設(shè)備廠商需要維持40%-50%的毛利潤率,以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設(shè)備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識產(chǎn)權(quán),也不利于企業(yè)的長期發(fā)展。

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