光刻技術(shù)

光刻技術(shù)是一種重要的微電子制造工藝，利用光刻機(jī)將掩膜圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再通過后續(xù)的化學(xué)或物理方法去除某些區(qū)域的光刻膠，形成具有所需功能和形狀的微米級或亞微米級結(jié)構(gòu)。

1.光刻技術(shù)原理

光刻技術(shù)的基本原理是利用凸透鏡將紫外線光匯聚于光刻膠表面，使光刻膠在被照射的區(qū)域發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或物理變化，然后通過顯影、退火等工藝去除光刻膠的一部分，最終形成所需的圖案。

2.光刻技術(shù)的特點(diǎn)

（1）分辨率高，能夠制造納米級及以下器件結(jié)構(gòu)；
（2）適用于多種材料，可制備不同性質(zhì)和形狀的器件；
（3）批量生產(chǎn)能力強(qiáng)，可快速、準(zhǔn)確地制造大量相同或相似的器件；
（4）制作流程復(fù)雜，環(huán)節(jié)多，成本高。

3.光刻技術(shù)的應(yīng)用

光刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、光學(xué)元件等領(lǐng)域，是制造集成電路和微納制造的重要工藝之一。在集成電路制造中，光刻工藝通常被用于制作芯片上的電路圖案和相互連接的線路；在MEMS制造中，光刻技術(shù)則可以用于制作微機(jī)械構(gòu)件和傳感器；在光學(xué)元件制造領(lǐng)域，光刻技術(shù)可用于制作透鏡、棱鏡等光學(xué)元件。