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精測電子:向中芯國際出售半導體設備,包括國內(nèi)唯一Review SEM設備

2021/07/14
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閱讀需 4 分鐘
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7月13日,精測電子接受機構調(diào)研,據(jù)機構問道:“簡單介紹下上海 精測半導體技術有限公司在2021年7月13日設備出機的相關情況?”

對此,據(jù)精測電子回復表示,本次出機兩款產(chǎn)品為獨立式光學關鍵尺寸量測設備(OCD)及電子束缺陷復查設備(Review-SEM),客戶為中芯國際。OCD設備除具有全自動光學膜厚測量能力外,還可以進行顯影后檢查(ADI)、刻蝕后檢查(AEI)等多種工藝段的二維或三維樣品的線寬、側壁角度(SWA)、高度/深度等關鍵尺寸(CD)特征或整體形貌測量,具有高速、準確和非破壞性等特點,是半導體前道檢測的關鍵設備之一;Review-SEM 是先進的全自動晶圓在線電子束缺陷復查和分類設備,對光學缺陷檢測設備的結果進行高辨率復查、分析和分類。

上海精測主要聚焦半導體前道檢測設備領域,致力于半導體前道量測檢測設備的研發(fā)及生產(chǎn),現(xiàn)已形成了膜厚/OCD 量測設備、電子束量測設備、泛半導體設備三大產(chǎn)品系列。上海精測膜厚產(chǎn)品(含獨立式膜厚設備)已取得國內(nèi)一線客戶的批量重復訂單、OCD 量測設備已取得訂單并已實現(xiàn)交付,半導體電子束檢測設備 eViewTM全自動晶圓缺陷復查設備已正式交付國內(nèi)客戶。其余儲備的產(chǎn)品目前正處于研發(fā)、認證以及拓展的過程中。

據(jù)上海精測公眾號表示,12寸獨立式光學線寬測量機臺(OCD)是該類型的國內(nèi)首臺機臺,主要用于45nm以下、特別是28nm平面CMOS工藝的量測,并可以延伸支持上述先進工藝節(jié)點的快速線寬測量。EPROFILE 300FD測量系統(tǒng)擁有完全自主知識產(chǎn)權,包括寬譜全穆勒橢偏測頭、對焦對位系統(tǒng)、系統(tǒng)軟件等核心零部件均為自主研發(fā),是真正意義上的高端國產(chǎn)化機臺。

配套EPROFILE 300FD, 上海精測還同時發(fā)布了新一代電磁場仿真建模工具J_ProfilerTM V3.0;該款軟件允許用戶在數(shù)百核的高速建模運算服務器上進行OCD建模與庫匹配,可以在獲取復雜三維納米結構光譜變化信息后,實時高速的對于納米結構的各個維度精確值進行計算。

而12寸全自動電子束晶圓缺陷復查設備(Review SEM)是上海精測半導體的另一項主力產(chǎn)品。公司從底層開發(fā)做起,掃描電子顯微鏡、配套掃描成像電路等關鍵核心部件均為自主設計,自主知識產(chǎn)權,并用了近兩年的時間打通了電子顯微鏡核心零部件加工的國產(chǎn)化供應鏈。

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