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EUV光刻機(jī)

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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。

極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。收起

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    為什么研發(fā)EUV光刻機(jī)那么難?
    雖然表面上看,光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的工具之一,但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機(jī)依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線(EUV)光源,而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個(gè)非常難以控制的“燈泡”,但這個(gè)“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作,還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強(qiáng)大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
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