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2nm工藝

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  • 摩爾定律再進(jìn)化，2納米之后芯片如何繼續(xù)突破物理極限
    摩爾定律再進(jìn)化，2納米之后芯片如何繼續(xù)突破物理極限
    提到集成電路行業(yè)，那么永遠(yuǎn)繞不過一個(gè)名詞，就是摩爾定律。但摩爾定律只是經(jīng)驗(yàn)之談，本質(zhì)是預(yù)測，并非什么物理層面的約束。當(dāng)時(shí)間來到2024年，等效3nm已經(jīng)商用，而2nm甚至1nm都已被提上日程，未來十年，摩爾定律又將走向何處呢？一些新技術(shù)或許會(huì)給我們帶來答案。
  • 三星公布最新先進(jìn)工藝技術(shù)路線圖 2nm工藝競爭升級(jí)
    三星公布最新先進(jìn)工藝技術(shù)路線圖 2nm工藝競爭升級(jí)
    近日，三星在美國加州圣何塞舉行的三星晶圓代工論壇(SFF)上表示，在過去一年中，三星代工的AI需求相關(guān)銷售額增長了80%，預(yù)計(jì)到2028年，其AI芯片代工客戶數(shù)量將比2023年增加4倍，代工銷售額將比2023年增加9倍。三星還公布了其最新的工藝技術(shù)路線圖，包括兩個(gè)新的工藝節(jié)點(diǎn)—SF2Z和SF4U，并且將為其代工客戶提供全面的“一站式”人工智能解決方案。
  • 深度丨2納米變成新戰(zhàn)場
    深度丨2納米變成新戰(zhàn)場
    今年一月，荷蘭ASML公司成功研制出首臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)，并在公眾面前進(jìn)行了首次開箱展示。其創(chuàng)新技術(shù)能夠?qū)⑹澜缟献罴舛说男酒瞥逃?納米進(jìn)一步縮減至2納米，為全球半導(dǎo)體行業(yè)帶來了劃時(shí)代的突破。此次成果的亮相，標(biāo)志著半導(dǎo)體廠商正式開啟了2納米芯片量產(chǎn)的新紀(jì)元。
  • 深度丨臺(tái)積電戰(zhàn)略大調(diào)整，棄28nm，大擴(kuò)產(chǎn)
    深度丨臺(tái)積電戰(zhàn)略大調(diào)整，棄28nm，大擴(kuò)產(chǎn)
    根據(jù)公開數(shù)據(jù)顯示，臺(tái)積電在2023年面臨了挑戰(zhàn)，其產(chǎn)能利用率下降至約80%，同時(shí)營收也有所減少。然而，隨著2024年的到來，臺(tái)積電迎來了轉(zhuǎn)機(jī)。由于AI芯片需求的迅猛增長，臺(tái)積電已成功獲得了大量訂單，并實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)能的全面利用。
  • 2納米先進(jìn)制程已近在咫尺！
    2納米先進(jìn)制程已近在咫尺！
    近日，IC設(shè)計(jì)大廠美滿電子（Marvell）宣布與臺(tái)積電的長期合作關(guān)系將擴(kuò)大至2納米，并開發(fā)業(yè)界首見針對加速基礎(chǔ)設(shè)施優(yōu)化的2納米半導(dǎo)體生產(chǎn)平臺(tái)。目前，行業(yè)內(nèi)最先進(jìn)的先進(jìn)制程量產(chǎn)技術(shù)是3納米工藝，由三星電子和臺(tái)積電制造。隨著英特爾拿下ASML的首臺(tái)光刻機(jī)并更新最新代工版圖，以及Rapidus與IBM合作日益密切，目前2納米先進(jìn)制程的競爭者以明顯擴(kuò)大為臺(tái)積電、英特爾、三星、Rapidus、Marvell五家。