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刻蝕設備

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刻蝕設備的發(fā)展和光刻技術，互連技術密切相關。High K / Low K材料，銅互連，Metal Gate，double Pattern等技術的發(fā)展都對刻蝕設備提出了新的需求·

刻蝕設備的發(fā)展和光刻技術，互連技術密切相關。High K / Low K材料，銅互連，Metal Gate，double Pattern等技術的發(fā)展都對刻蝕設備提出了新的需求·收起

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    2024 CSEAC：半導體設備國產化加速，競爭力在哪里？
    尊重知識產權和打造差異化競爭優(yōu)勢是中國半導體產業(yè)健康發(fā)展的關鍵。當前，低價競爭導致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙，它削弱了設備企業(yè)的研發(fā)能力，阻礙了技術的迭代升級。半導體設備廠商需要維持40%-50%的毛利潤率，以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術創(chuàng)新。非法的設備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識產權，也不利于企業(yè)的長期發(fā)展。
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  • 工業(yè)大盤點的風吹到了半導體設備
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  • 平臺的威力（2）：LAM產品線信息統(tǒng)計
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