建一家Fab新廠，需要哪些機(jī)臺(tái)設(shè)備？

知識(shí)星球的伙伴提出了題目的問(wèn)題。一家Fab廠的設(shè)備種類與數(shù)量與該廠的產(chǎn)能，工藝節(jié)點(diǎn)，產(chǎn)品類型，自動(dòng)化程度等有關(guān)，那么我們今天就來(lái)詳細(xì)介紹下常規(guī)的所需機(jī)臺(tái)。設(shè)備我這里將其分為工藝設(shè)備，檢測(cè)與量測(cè)設(shè)備和廠務(wù)設(shè)備。

工藝設(shè)備：包括濕法，干法，光刻。濕法包括：晶圓電鍍機(jī)，清洗機(jī)，濕法刻蝕機(jī)，cmp，濕法去膠機(jī)，甩干機(jī)等

干法設(shè)備

鍍膜：蒸發(fā)鍍膜機(jī)（Evaporation），濺射機(jī)（Sputtering），脈沖激光沉積（PLD）等，等離子體增強(qiáng)CVD（PECVD）,低壓CVD（LPCVD）,金屬有機(jī)CVD（MOCVD）,MPCVD，Laser CVD，APCVD，HT-CVD，UHV CVD等干法刻蝕：離子束刻蝕（IBE），ICP-RIE,CCP-RIE,ECR-RIE,DRIE，干法去膠機(jī)等。外延機(jī)臺(tái)離子注入機(jī)臺(tái)

退火：爐管退火設(shè)備，快速熱退火設(shè)備，激光退火設(shè)備，等離子體退火設(shè)備擴(kuò)散：爐管設(shè)備

光刻設(shè)備：光刻機(jī)，勻膠機(jī)，顯影機(jī)等

檢測(cè)與量測(cè)設(shè)備

光學(xué)顯微鏡，掃描電子顯微鏡（SEM），原子力顯微鏡（AFM），橢圓偏振儀，Probe，AOI，XRD，F(xiàn)IB，XPS，SIMS，TEM，四探針等等。

廠務(wù)設(shè)備

過(guò)濾系統(tǒng)：高效微?？諝?a class="article-link" target="_blank" href="/baike/1571093.html">過(guò)濾器（HEPA）和超高效微?？諝膺^(guò)濾器（ULPA），溫濕度控制系統(tǒng)：除濕機(jī)，加濕器，冷水機(jī)組，熱交換器，冷卻塔等氣體供應(yīng)系統(tǒng)：空壓機(jī)，制氮機(jī)等廢氣處理系統(tǒng)：干/濕式洗滌塔，燃燒塔，催化塔水處理系統(tǒng)：高純水機(jī)及廢水處理系統(tǒng)消防系統(tǒng)：自動(dòng)滅火系統(tǒng)，煙霧探測(cè)器和報(bào)警系統(tǒng)晶圓搬運(yùn)系統(tǒng)：OHT，AGV，RGV等

存儲(chǔ)系統(tǒng)：Stockers，Buffers等

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