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    • 01、三極管VS MOSFET VS IGBT
    • 02、PN結(jié)基礎(chǔ)-萬變不離其宗
    • 03、兩個PN結(jié)簡單組合就是三極管?
    • 04、為什么MOSFET比三極管簡單的多?
    • 05、三極管和MOS管聯(lián)姻的結(jié)晶——IGBT
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貿(mào)澤科普實驗室 | 據(jù)說這三個器件關(guān)系不一般

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在現(xiàn)代電子中,三極管、MOSFET(以下簡稱MOS管)、IGBT是電子人口中的“??汀保芏嗳丝赡芤恢虢?,或只知其一不知其二,尤其是電子新手,接下來跟著我們重新認(rèn)識一下他們吧——

01、三極管VS MOSFET VS IGBT

在實際應(yīng)用中,經(jīng)常能看到下面這些電路,使用了三極管、MOS管和IGBT的開關(guān)特性:

圖1:三極管、MOS管與IGBT應(yīng)用電路(圖源:自制)

我們把單片機GPIO口分別接到三極管、MOS管或者IGBT的一個端口上,通過IO口輸出高、低電平就可以控制所接負(fù)載,比如視頻開頭的電機啟停,以及喇叭、LED燈或者水泵等設(shè)備。

既然都可以作為開關(guān)來用,是不是可以相互替換呢?當(dāng)然不行了。下面就讓我們一步步的為大家揭曉答案。

02、PN結(jié)基礎(chǔ)-萬變不離其宗

在正式解答之前,先給大家講講半導(dǎo)體PN結(jié),這可是三極管、MOS管和IGBT的基礎(chǔ)。

我們常說的半導(dǎo)體材料,通常是硅、鍺等,導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間。以硅為例,純凈的硅被稱為本征半導(dǎo)體。硅是第4族元素,一個原子外層有4個電子,每個電子都與鄰近的另一個硅原子的外層電子形成共價鍵電子對結(jié)構(gòu),這種非常牢固。如果給純凈的硅摻入5族元素(砷、磷),5個價電子中的4個與相鄰的硅原子組成共價鍵后,還多余一個電子;如果摻入的是3族元素(硼、鋁),3個價電子與相鄰的硅原子組成共價鍵,因缺少一個價電子,就會產(chǎn)生一個空穴。前者摻雜的半導(dǎo)體稱為N型半導(dǎo)體,后者稱為P型半導(dǎo)體。

只要在半導(dǎo)體中分別摻入少量的雜質(zhì),在電場作用下能形成帶負(fù)電的載流子-自由電子以及帶正電的載流子-空穴粒子。當(dāng)N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體結(jié)合時,在它們交界處兩邊電子和空穴濃度不同,N區(qū)電子要向P區(qū)擴散,與P區(qū)空穴復(fù)合,形成耗盡層,也就是空間電荷區(qū),同時也是我們常說的PN結(jié)。如果給PN結(jié)加上正向電壓,當(dāng)正向電壓大于死區(qū)電壓,載流子在擴散運動下就會形成電流,PN結(jié)就導(dǎo)通了,相反如果加上反向電壓,那么PN結(jié)就截止。

當(dāng)我們在PN結(jié)的兩端接上金屬引腳,將這塊PN結(jié)封裝起來,于是就有了我們常見常用的二極管。按照摻雜的材料成份、摻雜濃度、尺寸大小、排布方式以及幾何結(jié)構(gòu),PN結(jié)可以制成很多種的元件,比如三極管、MOS管和IGBT。

03、兩個PN結(jié)簡單組合就是三極管?

有人說把兩個PN結(jié)簡單組合,或者直接用兩個二極管組合一下,不就成了三極管,這種想法大錯特錯。

當(dāng)年,美國物理學(xué)家約翰·巴丁(John Bardeen)和布拉頓(Brattai)發(fā)明世界上第一個半導(dǎo)體三極管,由此獲得了諾貝爾物理學(xué)獎,你就應(yīng)該知道三極管絕不是簡單!

當(dāng)然,這里為了方便大家理解,我們還是簡單化表示,三極管的結(jié)構(gòu)確實是把兩個PN結(jié)兩個背靠背,以NPN組合或PNP組合,就有了NPN型或PNP型三極管。

圖2:兩種類型三極管結(jié)構(gòu)與電路符號(圖源:自制)

大家有沒有注意到,集電區(qū)和發(fā)射區(qū)是同一類型的摻雜半導(dǎo)體,但他們的摻雜濃度是不一樣的。集電區(qū)的摻雜濃度低,面積大,這樣便于收集電子,而發(fā)射區(qū)摻雜濃度高,面積小,這樣便于發(fā)射電子。

前面我們知道PN結(jié)是有導(dǎo)通(也稱為正向偏置)和截止(也稱為反向偏置)狀態(tài),那么三極管中的2個PN結(jié)——集電結(jié)和發(fā)射結(jié)就有了以下三種狀態(tài)組合,同時對應(yīng)的是三極管的三種工作:

發(fā)射結(jié)反偏,集電結(jié)反偏——截止

發(fā)射結(jié)正偏,集電結(jié)反偏——放大

發(fā)射結(jié)正偏,集電結(jié)正偏——飽和

(tips:這個口訣是三極管的精髓,一定要記住。不管是考試還是面試,總要問一問的。)

以NPN三極管為例,若讓發(fā)射結(jié)正偏,就需要基極電壓UB大于發(fā)射極電壓UE,要給三極管的基極接電源正極,給發(fā)射極接電源負(fù)極。若讓集電結(jié)反偏,就需要集電極電壓UC大于基極電壓UB。因為基極已經(jīng)有了一個高電位,集電極需要一個更高的電位,集電結(jié)才會反偏?;鶚O和集電極加上電壓之后,由于N型和P型半導(dǎo)體中電子和空穴的擴散運動,就形成了基極電流IB、集電極電流IC以及發(fā)射極電流IE。

當(dāng)集電極與發(fā)射極之間的電壓UCE為某特定值時,基極電流IB與基極發(fā)射極電壓UBE是存在一定關(guān)系的,也就是三極管的輸入特性曲線:

圖3:三極管輸入特性曲線(圖源:電工電子技術(shù)基礎(chǔ))

UBER是三極管啟動的臨界電壓,它會受集射極電壓大小的影響。UBE<UBER時,三極管高絕緣,UBE><UBER時,三極管才會啟動;

UCE增大,特性曲線右移,但當(dāng)UCE>1.0V后,特性曲線幾乎不再移動。

當(dāng)基極電流IB一定時,集極IC與集-射電壓UCE之間的關(guān)系就是輸出特性:

圖4:三極管輸出特性曲線(圖源:電工電子技術(shù)基礎(chǔ))

當(dāng)IB=0時,IC→0,稱為三極管處于截止?fàn)顟B(tài),相當(dāng)于開關(guān)斷開;當(dāng)IB>0時,Ib輕微的變化,會在IC上以幾十甚至百多倍放大表現(xiàn)出來;

當(dāng)IB很大時,IC變得很大,不能繼續(xù)隨IB的增大而增大,三極管失去放大功能,表現(xiàn)為開關(guān)導(dǎo)通。

這個過程就是視頻中所描述的三極管與水閥的過程:初始水閥關(guān)閉,沒水流出,就相當(dāng)于三極管截止。打開閥門,水開始流出,水的大小與閥門開啟大小成一定比值。當(dāng)水閥完全打開,意味著三極管飽和。

曲線中所表示的三個區(qū)正是三極管的主要特性:飽和和截止區(qū)時,三極管具有開關(guān)特性,所以看到它可以控制電機;在放大區(qū)時,只要輕微的改變IB的大小,IC和IE就會有非常大的變化,以小電流控制大電流,四兩撥千斤,所以在模擬電路信號放大時,就能看到三極管的身影。下面這個圖就可以說明三極管的放大作用,但注意,并不是“一角”被放大成“一百”了,“一角”僅僅起著一種控制作用。

雖然三極管可以以小控大,完全導(dǎo)通后管壓降也很低,但三極管的控制功耗較大,比如一個三極管β=100,當(dāng)我們使用三極管控制100A電流時,控制信號就要1A,這么大的功耗在很多場景中是不現(xiàn)實的。所以三極管的“小老弟”出生了。

04、為什么MOSFET比三極管簡單的多?

MOSFET是由金屬、氧化物和半導(dǎo)體構(gòu)成的,簡稱MOS管。

在一塊P型半導(dǎo)體硅襯底上,用半導(dǎo)體光刻、擴散工藝制作兩個高摻雜濃度的N+區(qū),用金屬鋁引出兩個電極,就是漏極D和源極S。然后在漏極和源極之間的P型半導(dǎo)體表面復(fù)蓋一層很薄的二氧化硅(SiO2)絕緣層膜,再在這個絕緣層膜上裝上一個鋁電極,就是柵極G。襯底也引出一個電極和源極相連。兩塊N型之間的導(dǎo)電通道只有在外電場作用下才形成,所以,這樣的結(jié)構(gòu)被稱為是N型增強型MOSFET,簡稱NMOS。如果襯底采用N型半導(dǎo)體,源極、漏極為P+型,那么就是P型增強型MOS管。

從上面的結(jié)構(gòu)組成看,柵極與源極、漏極以及襯底之間是絕緣的,所以MOS管也是絕緣柵型器件。

如果給源極和柵極之間加一個電壓UGS,柵極、P型襯底,再加上中間的絕緣層,就形成了一個電容器,柵極、P型襯底就是電容器的極板。柵極上會感應(yīng)出正電荷,而P型襯底則會有負(fù)電荷。隨著UGS逐漸升高,受柵極正電壓的吸引,電容另一邊聚集大量的電子就會形成一個從漏極到源極的N型導(dǎo)電溝道。

當(dāng)UGS越大,溝道就越寬,導(dǎo)通電阻就越小,那么也代表著MOS管的導(dǎo)電能力就越強。這時如果在漏極和源極之間加上正向電壓UDS,那么就會有電流流過導(dǎo)電通道了。所以我們說的MOS管是壓控器件,就是源于此。

根據(jù)UGS與UGS(th)的關(guān)系,可以得到流過漏極電流ID,隨著UGS變化的關(guān)系,也就是MOS管的轉(zhuǎn)移特性。但UGS<UGS(th)時,ID幾乎為0;當(dāng)UGS=UGS(th)時,通電溝道開始形成,隨著UGS的增大,ID也增大,說明ID開始受到UGS的控制了。

當(dāng)UGS(th)>UGS(th)并且保持不變時,加在漏源之間的電壓UDS的變化,也會引起漏極電流ID的變化,他們之間的關(guān)系就是輸出特性。MOS也有三個工作區(qū):

工作區(qū)

截止區(qū):UGS小于UGS(th),MOS管工作在截止區(qū)

飽和區(qū)(恒流區(qū)):當(dāng)UDS>UGS-UGS(th)時,ID幾乎不隨著UDS變化,趨于飽和了。但這時ID受UGS控制的,UGS增大,ID是增大的。

可變電阻區(qū):這個區(qū)域ID與UDS基本上是線性關(guān)系的,溝道電阻有UGS決定。

當(dāng)然,還有擊穿區(qū),就是當(dāng)UDS比較大時,ID急劇增加,超過一定值,MOS管就被損壞了。

從結(jié)構(gòu)上看,MOS管比三極管復(fù)雜,但是MOS管只要給柵極源極加上一定的正向電壓,就可以工作,而三極管需要足夠的電流才能工作。在開關(guān)電源中,使用的開關(guān)管幾乎全都是MOS管,也足以說明控制起來,MOS管比三極管簡單多了。

作為電壓控制元件,MOS管在各個應(yīng)用領(lǐng)域展現(xiàn)出了極大的便利,比如:

在電路中可以用作開關(guān),控制電路的導(dǎo)通和關(guān)斷,像MOS管控制電機的速度和方向

在各類放大器中,MOS可以作為功率放大器使用,把微弱的信號放大

在開關(guān)電源電路中,MOS管發(fā)揮空濾控制的作用,穩(wěn)定輸出直流電源

在電源逆變器中,使用MOS管,可以將直流電轉(zhuǎn)換為交流電。

雖然MOS管控制簡單,但是它在控制大電流時,管壓降遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于三極管,很難制成高壓大電流元件。所以,利用三極管就和MOS管各自的優(yōu)點,就有一個新器件。

05、三極管和MOS管聯(lián)姻的結(jié)晶——IGBT

從IGBT的結(jié)構(gòu)看,你別說還真是聯(lián)姻的結(jié)晶呢。

簡單的說,IGBT相當(dāng)于一個由MOSFET驅(qū)動的后基區(qū)PNP型晶體管,IGBT是三極管與MOSFET組成的達林頓結(jié)構(gòu)的復(fù)合器件。

IGBT的開通與關(guān)斷,是由柵極和發(fā)射極之間的電壓UGE決定的。當(dāng)UGE大于開啟電壓UGE(th)時,MOS管內(nèi)形成溝通,并且為PNP三極管提供基極電流進而是IGBT導(dǎo)通。當(dāng)UGE為0或者加了反向電壓時,MOS管內(nèi)的溝道消失,三極管的基極電流被切斷,IGBT也就關(guān)斷了。IGBT的導(dǎo)通原理,與MOS管基本上是一樣的。但是IGBT的結(jié)構(gòu),使得擴展電阻要比MOS管小,所以通態(tài)壓降要小的多。

IGBT繼承了MOSFET的驅(qū)動電流小,也繼承了三極管的通態(tài)壓降小,因此,它具有驅(qū)動功率小、開關(guān)速度快、工作電壓、電流容量大等優(yōu)點。在直流電壓600V至幾千V的應(yīng)用場景中,就只能安排IGBT上了。

以上這些內(nèi)容就是對視頻中三極管、MOS管和IGBT知識的額外補充了。這三個器件的內(nèi)容遠(yuǎn)不止這些,每個器件都能出一本書,講一個學(xué)期。

每個器件都不是無緣無故的出現(xiàn),都伴隨著應(yīng)用需求出現(xiàn)。無論是三極管、MOSFET,還是IGBT,都是現(xiàn)代電子中非常重要的器件,可以根據(jù)不同控制場景選擇。

結(jié)尾處,給大家總結(jié)一下三極管、MOS管和IGBT的重要特性,希望可以對大家之后的學(xué)習(xí)有所幫助。

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