ASML將推中國特供版DUV光刻機？完全沒必要！官方已辟謠！

7月6消息，據(jù)DigiTimes報道，荷蘭光刻機大廠ASML正在考慮發(fā)布其深紫外光刻 (DUV) 設(shè)備的特殊版本，以便使得該設(shè)備符合美國及荷蘭最新的出口規(guī)則，并且無需許可證即可運送給中國客戶。

報道稱，該特別版DUV光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而NXT:?1980Di 是 10 年前推出的舊型號，不在限制范圍內(nèi)。

芯智訊在此前《荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備出口限制新規(guī)詳解》當中有指出，荷蘭政府的對于DUV光刻機的限制要求是需要同時滿足最小可分辨特征尺寸小于或等于45nm和DCO值小于或等于1.50nm這兩個條件，因此，ASML的NXT1980系列（分辨率為38納米左右，但DCO值是小于等于1.6nm）依然可以不受荷蘭新規(guī)限制，不需要許可就能夠向中國出口。

ASML的聲明也表示，根據(jù)荷蘭新的出口管制條例規(guī)定，ASML TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)需要向荷蘭政府申請出口許可證才能出口。而目前有在售NXT1980系列則不受影響。

雖然去年10月美國出臺了對華半導(dǎo)體出口限制新規(guī)，限制了可以被用于先進制程邏輯芯片及先進存儲芯片的美系半導(dǎo)體設(shè)備的對華出口。但是，ASML是荷蘭設(shè)備廠商，并不受該規(guī)則影響。今年1月，ASML CEO彼得·溫克寧就曾公開表示，可以不受限的向中國出口DUV光刻機。

或許正因為如此，隨后美國方面又開始向荷蘭施壓，要求荷蘭跟進美國的新規(guī)。于是在今年7月1日，荷蘭正式出臺了聚焦于半導(dǎo)體設(shè)備的出口限制新規(guī)。

但是，荷蘭方面的新規(guī)也沒有限制ASML?NXT1980系列，也就是說NXT1980系列本就符合美國及荷蘭的新規(guī)，那為何傳聞稱ASML還要考慮推出面向中國市場的“特供版”NXT 1980系列呢？

從DigiTimes的報道來看，還是糾結(jié)于NXT 1980系列有可能制造出先進制程芯片。認為ASML會推出更低分辨率版本的“特供版”NXT?1980系列，以避免相關(guān)問題。

據(jù)芯智訊了解，NXT:1980Di?雖然分辨率在38nm左右，但是通過多重曝光，依然可以支持到7nm左右。據(jù)說臺積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實現(xiàn)的。但是這樣做，步驟更為復(fù)雜，對技術(shù)要求高，成本也更高，良率可能也會有損失。實際上，目前國內(nèi)已有的NXT:1980Di 基本都是被用于45nm以下16nm以上的成熟制程的生產(chǎn)。

更何況，正如前面芯智訊所指出的，ASML現(xiàn)有的NXT 1980系列本就符合美國及荷蘭的新規(guī)，可以不需要許可即可出口到中國，為什么還需要多此一舉針對中國市場推出進一步閹割的NXT 1980版本？完全沒必要。純粹是灣灣的媒體在搞事！

所以，在今傍晚時候，ASML官方也對于這則傳聞進行了辟謠。ASML回應(yīng)稱：ASML都遵守所適用的法律條例，公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。

編輯：芯智訊-浪客劍