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8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì)提出了一項(xiàng)全新、大幅簡(jiǎn)化的面向極紫外（EUV）光刻機(jī)的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時(shí)，能讓EUV光線以超過(guò)初始值10%的功率到達(dá)晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來(lái)說(shuō)，提了高到了原來(lái)的10倍，可說(shuō)是一大突破。

芯智訊

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08/12 15:23

EUV光刻機(jī) EUV光刻

從大型EUV光刻廠的熱炒聊起

最近清華的SSMB-EUV光源在網(wǎng)上傳得沸沸揚(yáng)揚(yáng)，大概意思是中國(guó)可以通過(guò)這個(gè)加速器來(lái)產(chǎn)生不同頻率的EUV光源，同時(shí)可以給各種芯片制程來(lái)使用，徹底解決光刻機(jī)的技術(shù)壁壘。公眾對(duì)這個(gè)話題感興趣，原因還是希望能夠早日突破美國(guó)技術(shù)封鎖，對(duì)清華的研究充滿信心，希望我國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)能夠盡快趕上國(guó)際領(lǐng)先水平。至于這個(gè)SSMB技術(shù)的細(xì)節(jié)，我相信絕大部分公眾并無(wú)法判斷，即使在專業(yè)的半導(dǎo)體群中，大部分人也說(shuō)不清楚。

土人觀芯

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2023/09/20

光刻機(jī) EUV光刻

提高數(shù)值孔徑是EUV光刻技術(shù)目標(biāo)之一

光刻是大規(guī)模集成電路芯片制備的核心工藝環(huán)節(jié)，其中，EUV光刻機(jī)是服務(wù)于7nm 以下制程芯片的設(shè)備。

中國(guó)電子報(bào)

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2022/11/14

EUV光刻

ASML的未來(lái)：光明與風(fēng)險(xiǎn)并存

很少有公司能像ASML那樣，從全球經(jīng)濟(jì)中不斷增加的半導(dǎo)體需求中獲益。

Astroys

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2021/12/24

ASML EUV光刻

半導(dǎo)體｜日本廠商在EUV半導(dǎo)體設(shè)備中市占逐步提升

CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，極紫外光刻（EUV）在半導(dǎo)體線路的微縮化進(jìn)程中極為重要，在“極紫外光刻曝光”相關(guān)工序中，日本設(shè)備廠家的存在感在逐步提升。荷蘭ASML獨(dú)霸關(guān)鍵曝光設(shè)備市場(chǎng)，日本企業(yè)則在檢測(cè)、感光材料涂布、成像等相關(guān)設(shè)備方面占有較高的市場(chǎng)份額。然而，一臺(tái)尖端的EUV相關(guān)設(shè)備價(jià)格高昂，對(duì)半導(dǎo)體廠家來(lái)說(shuō)是較重的投資負(fù)擔(dān)。長(zhǎng)期