永井玛利亚,台风少年行

8月7日消息，近日日本沖繩科學技術(shù)大學（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團隊提出了一項全新、大幅簡化的面向極紫外（EUV）光刻機的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學性能的同時，能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說，提了高到了原來的10倍，可說是一大突破。

芯智訊

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08/12 15:23

EUV光刻機 EUV光刻

從大型EUV光刻廠的熱炒聊起

最近清華的SSMB-EUV光源在網(wǎng)上傳得沸沸揚揚，大概意思是中國可以通過這個加速器來產(chǎn)生不同頻率的EUV光源，同時可以給各種芯片制程來使用，徹底解決光刻機的技術(shù)壁壘。公眾對這個話題感興趣，原因還是希望能夠早日突破美國技術(shù)封鎖，對清華的研究充滿信心，希望我國的芯片產(chǎn)業(yè)能夠盡快趕上國際領(lǐng)先水平。至于這個SSMB技術(shù)的細節(jié)，我相信絕大部分公眾并無法判斷，即使在專業(yè)的半導體群中，大部分人也說不清楚。

土人觀芯

3580

2023/09/20

光刻機 EUV光刻

提高數(shù)值孔徑是EUV光刻技術(shù)目標之一

光刻是大規(guī)模集成電路芯片制備的核心工藝環(huán)節(jié)，其中，EUV光刻機是服務(wù)于7nm 以下制程芯片的設(shè)備。

中國電子報

2357

2022/11/14

EUV光刻

ASML的未來：光明與風險并存

很少有公司能像ASML那樣，從全球經(jīng)濟中不斷增加的半導體需求中獲益。

Astroys

1055

2021/12/24

ASML EUV光刻

半導體｜日本廠商在EUV半導體設(shè)備中市占逐步提升

CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，極紫外光刻（EUV）在半導體線路的微縮化進程中極為重要，在“極紫外光刻曝光”相關(guān)工序中，日本設(shè)備廠家的存在感在逐步提升。荷蘭ASML獨霸關(guān)鍵曝光設(shè)備市場，日本企業(yè)則在檢測、感光材料涂布、成像等相關(guān)設(shè)備方面占有較高的市場份額。然而，一臺尖端的EUV相關(guān)設(shè)備價格高昂，對半導體廠家來說是較重的投資負擔。長期

CINNO Research

152

2021/01/27

5G 半導體設(shè)備