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電子束

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電子經(jīng)過(guò)匯集成束。具有高能量密度。它是利用電子槍中陰極所產(chǎn)生的電子在陰陽(yáng)極間的高壓(25-300kV)加速電場(chǎng)作用下被加速至很高的速度(0.3-0.7倍光速),經(jīng)透鏡會(huì)聚作用后,形成密集的高速電子流。

電子經(jīng)過(guò)匯集成束。具有高能量密度。它是利用電子槍中陰極所產(chǎn)生的電子在陰陽(yáng)極間的高壓(25-300kV)加速電場(chǎng)作用下被加速至很高的速度(0.3-0.7倍光速),經(jīng)透鏡會(huì)聚作用后,形成密集的高速電子流。收起

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    電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備是芯片制造裝備中除光刻機(jī)之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類(lèi)別之一,深度參與光刻環(huán)節(jié)、對(duì)制程節(jié)點(diǎn)敏感并且對(duì)最終產(chǎn)線良率起到至關(guān)重要的作用。其最為核心的模塊為電子光學(xué)系統(tǒng)(Electron?Optical?System,簡(jiǎn)稱(chēng)EOS),決定設(shè)備的成像精度和質(zhì)量, 進(jìn)而決定設(shè)備的性能。 作為電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的先行者、領(lǐng)跑者,東方晶源始終堅(jiān)持自主研發(fā),不斷深化研發(fā)投入、加速技術(shù)創(chuàng)新步伐,致力于為客
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    除了積極跟蹤EUV光刻機(jī)的開(kāi)發(fā)進(jìn)程,芯片廠商也在尋找能夠替代EUV光刻機(jī)的技術(shù)。被寄予厚望的不僅僅是電子束光刻技術(shù)。鎧俠力推NIL壓印工藝,聲稱(chēng)有望在2025年實(shí)現(xiàn)5nm工藝;臺(tái)積電采用DUV光刻技術(shù)同樣實(shí)現(xiàn)了7nm工藝,并聲稱(chēng)DUV光刻技術(shù)可以也可以實(shí)現(xiàn)5nm工藝。
  • 電子束焊接原理
    電子槍中的陰極由于直接或間接加熱而發(fā)射電子,該電子在高壓靜電場(chǎng)的加速下再通過(guò)電磁場(chǎng)的聚焦就可以形成能量密度極高的電子束,用此電子束去轟擊工件,巨大的動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱能,使焊接處工件熔化,形成熔池,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的焊接。
    1882
    2021/04/26
  • 電子束焊接
    電子束焊接是一種高能量密度焊接方法,利用對(duì)產(chǎn)生的高速電子束進(jìn)行聚焦,通過(guò)在工件上產(chǎn)生熱量來(lái)實(shí)現(xiàn)材料的熔接。這項(xiàng)技術(shù)在現(xiàn)代制造業(yè)中扮演著重要角色,具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用領(lǐng)域。
    152
    18小時(shí)前
  • 電子束曝光
    電子束曝光是一種先進(jìn)的微影技術(shù),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝、納米制造等領(lǐng)域。通過(guò)使用高速電子束對(duì)待加工物進(jìn)行準(zhǔn)確的曝光,可以實(shí)現(xiàn)微小尺寸和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造,具有極高的分辨率和精度。

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