刻蝕工藝

• 干法刻蝕的原理、工藝流程、評價參數(shù)及應(yīng)用
  

  RIE干法刻蝕技術(shù)憑借其優(yōu)越的各向異性刻蝕能力和良好的選擇比控制，已成為半導(dǎo)體制造中不可或缺的核心工藝。

  老虎說芯

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  09/29 08:51

  刻蝕工藝
• 面試 | 光刻工藝,晶圓制造,CMP,PIE工程師面試問題合集
  

  本篇匯集了關(guān)于光刻工藝、晶圓制造相關(guān)崗位，以及FPGA工程師面試時的常見問題。且在持續(xù)更新中……? 切記收藏哦！

  與非網(wǎng)

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  08/13 09:55

  FPGA 晶圓制造
• 刻蝕工藝面試小結(jié)
  刻蝕工藝的基本原理：刻蝕是通過物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法去除材料的一部分，通常是在曝光、顯影之后，將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到基底材料上的過程。刻蝕可以分為干法刻蝕和濕法刻蝕。干法刻蝕通過等離子體或離子束去除材料，而濕法刻蝕使用化學(xué)溶液進行材料的選擇性去除。

  老虎說芯

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  08/13 07:34

  刻蝕工藝
• 晶圓制造刻蝕工藝面試常見問題
  

  請解釋刻蝕工藝的基本原理以及在半導(dǎo)體制造中的重要性。在選擇刻蝕工藝時，如何確定是使用干法刻蝕還是濕法刻蝕？請描述RIE（反應(yīng)離子刻蝕）工藝的工作原理和應(yīng)用場景。

  老虎說芯

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  08/07 08:50

  晶圓制造 刻蝕工藝
• 干法刻蝕工藝中DC自偏壓的作用？
  學(xué)員問：DC自偏壓是如何產(chǎn)生的？有什么作用？如何測量？

  TOM聊芯片智造

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  07/24 11:10

  刻蝕工藝 干法刻蝕
• 為刻蝕終點探測進行原位測量
  

  介紹 半導(dǎo)體行業(yè)一直專注于使用先進的刻蝕設(shè)備和技術(shù)來實現(xiàn)圖形的微縮與先進技術(shù)的開發(fā)。隨著半導(dǎo)體器件尺寸縮減、工藝復(fù)雜程度提升，制造工藝中刻蝕工藝波動的影響將變得明顯?？涛g終點探測用于確定刻蝕工藝是否完成、且沒有剩余材料可供刻蝕。這類終點探測有助于最大限度地減少刻蝕速率波動的影響。 刻蝕終點探測需要在刻蝕工藝中進行傳感器和計量學(xué)測量。當(dāng)出現(xiàn)特定的傳感器測量結(jié)果或閾值時，可指示刻蝕設(shè)備停止刻蝕操作。如

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  01/18 12:33

  半導(dǎo)體行業(yè) 光刻膠
• 薄膜太陽電池邊緣刻蝕，看瑞豐恒高功率紫外激光器的
  

  傳統(tǒng)的邊緣刻蝕技術(shù)往往面臨著精度不高、能耗大、工藝周期長等諸多問題。而瑞豐恒高功率紫外激光器，作為一種創(chuàng)新的切割工具，以其在薄膜太陽電池邊緣刻蝕中的卓越表現(xiàn)而備受矚目。首先，精準(zhǔn)切割能力。其獨特的短脈沖寬度和高能量密度，能夠精確掌握對薄膜太陽電池邊緣的切割過程。通過使用這一先進的激光工具，操作者可以輕松實現(xiàn)高度精細(xì)的邊緣刻蝕，確保薄膜表面的一致性和平整度，從而提高整體光吸收效率。

  eefocus_3936876

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  2023/09/08

  激光器 刻蝕工藝
• 科研前線 | 刻蝕深淺知否？IBM工藝研發(fā)新成果
  IBM工藝研發(fā)團隊通過先進算法與機器學(xué)習(xí)結(jié)合傳統(tǒng)儀器測量發(fā)放，實現(xiàn)不通過對整個光學(xué)模型解析的計算求解路徑，相關(guān)研究成果先行刊載于IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing。

  芯片揭秘

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  2022/05/02

  刻蝕工藝
• 智能刻蝕帶來突破性的生產(chǎn)力提升
  增加電路密度而不必移動到新技術(shù)節(jié)點的優(yōu)勢使得垂直擴展成為半導(dǎo)體行業(yè)的強大驅(qū)動力。但它也有一系列挑戰(zhàn)，其中關(guān)鍵的挑戰(zhàn)便是刻蝕能力。

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  2022/01/24

  半導(dǎo)體行業(yè) 晶圓廠
• 高深寬比刻蝕和納米級圖形化推進存儲器的路線圖
  隨著市場需求推動存儲器技術(shù)向更高密度、更優(yōu)性能、新材料、3D堆棧、高深寬比 (HAR) 刻蝕和極紫外 (EUV) 光刻發(fā)展，泛林集團正在探索未來三到五年生產(chǎn)可能面臨的挑戰(zhàn)，以經(jīng)濟的成本為晶圓廠提供解決方案。

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  705

  2022/01/10

  EUV 3D NAND
• 加速特征相關(guān)(FD)干法刻蝕的工藝發(fā)展
  SEMulator3D中可視刻蝕特征提供了一種模擬與現(xiàn)實刻蝕腔室接近的刻蝕速率的方法。

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  2021/11/15

  刻蝕工藝 ALD
• 不吹上天，不扁入地，還原真實的“中國刻蝕機之父——尹志堯”
  “剛剛，這位中國老人，突然回國，美國人徹底慌了！” “是他，讓中國半導(dǎo)體技術(shù)彎道超車，趕超美日！是他，讓‘中國芯’實現(xiàn)中國制造，突破外企獨霸！” “中國再一次在核心領(lǐng)域突破技術(shù)‘無人區(qū)’，彎道超車，率先掌握5 納米半導(dǎo)體技術(shù)！” 尹志堯本人在回復(fù)科大微電子學(xué)院院長劉明院士時表示他已不堪其擾：希望媒體能夠做到事實報道，不要夸大其詞。

  夏珍

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  1評論

  2019/11/16

  與非觀察 半導(dǎo)體設(shè)備
• 中微半導(dǎo)體已掌握5nm刻蝕機技術(shù)，這個彎道超車漂亮
  不鳴則已一鳴必驚人！揚眉吐氣、創(chuàng)造歷史！中國再一次在核心領(lǐng)域突破技術(shù)“無人區(qū)”，彎道超車，率先掌握5 nm半導(dǎo)體技術(shù)！

  與非網(wǎng)記者

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  3評論

  2017/04/06

  芯片 5nm
• 濕法刻蝕
  濕法刻蝕是一種常見的微納加工技術(shù)，用于在半導(dǎo)體制造和微電子領(lǐng)域中對材料表面進行精確的刻蝕。通過將待刻蝕的材料浸泡在化學(xué)溶液中，利用化學(xué)反應(yīng)來去除或改變材料表面的特定區(qū)域，實現(xiàn)微結(jié)構(gòu)的制作。本文將介紹濕法刻蝕的定義、原理、應(yīng)用、優(yōu)缺點以及相關(guān)安全措施。

  eefocus_3901714

  9700

  01/31 10:39

  刻蝕工藝 微納加工
• PCB印制電路中影響蝕刻液特性的因素有哪些
  在印制電路板（PCB）的制造過程中，蝕刻是一個重要的步驟。蝕刻液作為蝕刻過程中的關(guān)鍵因素之一，其特性直接影響著PCB的質(zhì)量和成品效果。

  eefocus_3901714

  242

  10/17 06:34

  刻蝕工藝

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