知識星球(星球名:芯片制造與封測技術社區(qū),星球號:63559049)里的學員問:等離子刻蝕機臺的頻率有13.56MHz,2.45GHz等,頻率的大小的不同會對造成什么影響?該怎么選用。
射頻電源的作用?
射頻電源主要用于PECVD、HDPCVD、PEALD、干法刻蝕、去膠、PVD、干法清洗等設備中,起到激發(fā)等 離子體、選擇刻蝕方向等作用。
射頻電源有哪些常見頻率?
13.56MHz,2.45GHz,40-100KHz,2MHz其中,13.56MHz是半導體設備最常見的頻率。
頻率與離子能量,密度的關系?
如圖所示:頻率越高,離子能量一般越低,密度越大;頻率越低,離子能量一般越高,密度越小。
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