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    • 羅姆功率器件銷售目標(biāo):2027年逼近5000億日元
    • SiC:逐代優(yōu)化,持續(xù)擴(kuò)大產(chǎn)能
    • GaN:改善器件結(jié)構(gòu),提升產(chǎn)品易用性
    • EcoGaN?系列持續(xù)推進(jìn)節(jié)能和小型化
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羅姆:解決GaN應(yīng)用難題,引領(lǐng)下一代功率半導(dǎo)體創(chuàng)新

01/31 18:04
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半導(dǎo)體扮演著電子設(shè)備和電器產(chǎn)品的“大腦”角色,已然成為支撐數(shù)字社會(huì)發(fā)展的基石。在對(duì)“節(jié)能”和“小型化”需求日益高漲的背景下,羅姆逐漸將業(yè)務(wù)重心鎖定在功率半導(dǎo)體和模擬半導(dǎo)體:不斷發(fā)展的功率電子技術(shù)使精密控制成為可能,而模擬IC技術(shù)使智能設(shè)備實(shí)現(xiàn)節(jié)能和小型化發(fā)展,通過(guò)解決實(shí)際需求中的各種難題,羅姆希望推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)可持續(xù)發(fā)展。

羅姆功率器件銷售目標(biāo):2027年逼近5000億日元

功率器件領(lǐng)域,GaNSiC同屬第三代半導(dǎo)體,相比硅基半導(dǎo)體具有禁帶寬度更寬、高耐壓、熱導(dǎo)率、電子飽和速度更高的特點(diǎn),能夠滿足現(xiàn)代電子技術(shù)對(duì)半導(dǎo)體材料提出的高溫、高功率、高壓、高頻要求。特別是針對(duì)要求小型化、低功耗5GPD快充適配器等產(chǎn)品,僅憑目前主流半導(dǎo)體材料Si已無(wú)法滿足需求,這使得包括GaN HEMT在內(nèi)的新型功率半導(dǎo)體必不可少。羅姆專注于發(fā)揮包括SiC、Si和GaN各種功率元器件的技術(shù)優(yōu)勢(shì),以更高效地處理電力,滿足不同產(chǎn)品需求的材料和元器件結(jié)構(gòu),支持廣泛的應(yīng)用需求。

當(dāng)前,在大功率、高電壓(高于600V)、高頻率(20~200kHz)領(lǐng)域,主要采用SiC功率器件;GaN則用于中等功率、中等耐壓(100~600V)、高頻率(200kHz以上)。據(jù)羅姆方面數(shù)據(jù),到2027年,其功率器件銷售額目標(biāo)將接近5000億日元,其中,SiC銷售額目標(biāo)預(yù)計(jì)將在2027年突破2700億日元。

SiC:逐代優(yōu)化,持續(xù)擴(kuò)大產(chǎn)能

SiC功率器件方面,羅姆秉持從材料到封裝的一貫性生產(chǎn)體制,以實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)、穩(wěn)定供給和競(jìng)爭(zhēng)力。

在SiC功率器件領(lǐng)域,羅姆的技術(shù)優(yōu)勢(shì)主要包括:第一,通過(guò)逐代演進(jìn),持續(xù)實(shí)現(xiàn)更低的導(dǎo)通電阻特性,預(yù)計(jì)到2028年量產(chǎn)第六代產(chǎn)品,在上一代產(chǎn)品的基礎(chǔ)上再降低30%;第二,增加晶圓直徑,提高生產(chǎn)效率,從2017年的6英寸到2023年的8英寸晶圓(旗下全資子公司德國(guó)SiCrystal公司);第三,增加元件尺寸,支持高輸出逆變器,從2015年的25mm2,到2024年的50mm2。

下一步,羅姆將通過(guò)產(chǎn)能提升計(jì)劃,持續(xù)擴(kuò)大SiC芯片產(chǎn)能,以滿足不斷增長(zhǎng)的市場(chǎng)需求。筑后工廠可量產(chǎn)6英寸/8英寸晶圓,宮崎工廠量產(chǎn)6英寸晶圓,宮崎第二工廠(國(guó)富)預(yù)計(jì)將于2024年運(yùn)營(yíng),量產(chǎn)8英寸晶圓,并且除了SiC器件以外,還計(jì)劃生產(chǎn)SiC基板。

GaN:改善器件結(jié)構(gòu),提升產(chǎn)品易用性

隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展,GaN的市場(chǎng)規(guī)模也在不斷擴(kuò)大。據(jù)Yole Group預(yù)測(cè),從2022年到2028年,GaN功率器件市場(chǎng)將以49%的復(fù)合年增長(zhǎng)率快速增長(zhǎng),市值將從2022年的1.849億美元增長(zhǎng)至20.4億美元。

與Si相比,GaN具有低導(dǎo)通電阻、高速開(kāi)關(guān)等優(yōu)異特性。而相對(duì)于SiC在高耐壓和大工作電流方面具有的優(yōu)勢(shì),GaN有望在100~600V中等耐壓范圍內(nèi),憑借出色的擊穿場(chǎng)強(qiáng)和電子飽和速度,實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻和高速開(kāi)關(guān)(高頻率工作)性能。在同樣需要節(jié)能和小型化的應(yīng)用中,它也可以滿足一次電源服務(wù)器、適配器、普通電源)市場(chǎng)的需求。

羅姆認(rèn)為,除了消費(fèi)領(lǐng)域,工業(yè)和數(shù)據(jù)中心應(yīng)用已成為GaN增長(zhǎng)的催化劑。在這些應(yīng)用中,巨大的功耗已成為一個(gè)亟待解決的問(wèn)題。在電源中使用高電源轉(zhuǎn)換效率的GaN可以顯著減少能源消耗,同時(shí)滿足縮小應(yīng)用尺寸和厚度的行業(yè)發(fā)展要求,為節(jié)能環(huán)保做出貢獻(xiàn)?;诙嗄攴e累的豐富半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝技術(shù),羅姆開(kāi)發(fā)了顛覆傳統(tǒng)的GaN品牌——EcoGaN?系列產(chǎn)品,旨在進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)應(yīng)用產(chǎn)品的節(jié)能和小型化。

隨著GaN產(chǎn)品的不斷豐富,羅姆是否看到了現(xiàn)存的一些應(yīng)用問(wèn)題?羅姆半導(dǎo)體(北京)有限公司技術(shù)中心總經(jīng)理水原德健表示,主要是5V的驅(qū)動(dòng)電壓與市場(chǎng)主流6V產(chǎn)品不匹配的問(wèn)題,導(dǎo)致需要額外電路或擔(dān)心雜波影響可靠性。

因此,羅姆的新產(chǎn)品主要解決這一問(wèn)題,通過(guò)增加針對(duì)過(guò)沖電壓的電壓裕度、用高速開(kāi)關(guān)優(yōu)化電源電路效率等方式。器件產(chǎn)品陣容方面,羅姆主要有150V和650V的GaN HEMT,已經(jīng)開(kāi)始量產(chǎn)。150V GaN HEMT包括40毫歐和8.5毫歐產(chǎn)品,650V EcoGaN? (GaN HEMT) Power Stage IC包括70毫歐和150毫歐產(chǎn)品。這些產(chǎn)品可以單獨(dú)使用,也可以與驅(qū)動(dòng)板或電源板配合使用,為客戶提供靈活的測(cè)試方案。

據(jù)水原德健介紹,GaN HEMT的穩(wěn)定可靠對(duì)于GaN器件的全面推廣至關(guān)重要,而基于GaN-on-Si襯底的高質(zhì)量制造技術(shù)是生長(zhǎng)GaN外延層的關(guān)鍵。早在2006年,羅姆就開(kāi)始研發(fā)氮化鎵產(chǎn)品。憑借其多年來(lái)為量產(chǎn)可靠的LED產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的基本外延和生長(zhǎng)技術(shù),羅姆將其應(yīng)用于GaN HEMT,為需要長(zhǎng)期可靠性的市場(chǎng)提供穩(wěn)定的供應(yīng)。

為了方便客戶應(yīng)用氮化鎵,羅姆還推出了Power Stage IC,通過(guò)將柵極驅(qū)動(dòng)器和GaN HEMT進(jìn)行一體化封裝,這種IC可以將12V的驅(qū)動(dòng)電壓轉(zhuǎn)換為5V,使得客戶可以直接使用現(xiàn)有的電路,無(wú)需進(jìn)行復(fù)雜的修改。

例如650V EcoGaN (GaN HEMT) Power Stage IC,就具有三個(gè)特點(diǎn):易于安裝GaN器件、可輕松替換現(xiàn)有功率半導(dǎo)體電路、損耗低于普通產(chǎn)品。與硅相比,氮化鎵的開(kāi)關(guān)損耗更低,可降低約55%。使用氮化鎵還可以實(shí)現(xiàn)小型化,因?yàn)椴恍枰由岚?,體積更小,效率更高。

此外,羅姆還憑借其在功率半導(dǎo)體和模擬電源技術(shù)方面的優(yōu)勢(shì),挑戰(zhàn)高頻率開(kāi)關(guān)技術(shù),例如其超高速脈沖控制技術(shù)Nano Pulse Control?,可以更好地激發(fā)GaN器件的性能。

EcoGaN?系列持續(xù)推進(jìn)節(jié)能和小型化

羅姆的GaN器件EcoGaN?品牌系列,旨在通過(guò)更大程度地發(fā)揮GaN的性能,實(shí)現(xiàn)GaN的穩(wěn)定控制。該品牌不僅包括GaN HEMT單品,搭載GaN的、內(nèi)置控制器的IC也包含其中。EcoGaN?系列產(chǎn)品有助于進(jìn)一步降低應(yīng)用產(chǎn)品的功耗,實(shí)現(xiàn)外圍元器件的小型化,減少設(shè)計(jì)工時(shí)和元器件數(shù)量等,助力應(yīng)用產(chǎn)品進(jìn)一步節(jié)能和小型化。

據(jù)透露,隨著GaN器件的性能的進(jìn)一步提高和陣容擴(kuò)充,羅姆將持續(xù)推進(jìn)用于驅(qū)動(dòng)GaN HEMT的、內(nèi)置控制器的器件和模塊的開(kāi)發(fā),進(jìn)一步加強(qiáng)電源解決方案。其中包括,具有低導(dǎo)通電阻和高速開(kāi)關(guān)性能的產(chǎn)品——150V耐壓產(chǎn)品(第二/三代);內(nèi)置驅(qū)動(dòng)器和控制器的GaN模塊;650V耐壓的新封裝(TOLL封裝)產(chǎn)品等。

關(guān)于Power Stage IC產(chǎn)品,羅姆計(jì)劃2024年量產(chǎn)搭載偽諧振AC-DC電路或功率因數(shù)改善電路、以及搭載半橋電路等產(chǎn)品。并且,截至2026年,羅姆計(jì)劃陸續(xù)量產(chǎn)將GaN HEMT、柵極驅(qū)動(dòng)IC、控制IC集成在同一封裝的產(chǎn)品。羅姆將繼續(xù)為用戶提供各種形式的EcoGaN解決方案,方便用戶更加便捷地搭載GaN器件。

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羅姆

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ROHM公司總部在日本京都,是著名電子元件制造商。公司1958年成立,開(kāi)始制造電阻器件,公司名稱源自于此。1965年進(jìn)入半導(dǎo)體領(lǐng)域。ROHM公司采用先進(jìn)的生產(chǎn)技術(shù)生產(chǎn)電子元器件,包括一些最先進(jìn)的自動(dòng)化技術(shù),因此能夠始終處于元件制造業(yè)的最前列.

ROHM公司總部在日本京都,是著名電子元件制造商。公司1958年成立,開(kāi)始制造電阻器件,公司名稱源自于此。1965年進(jìn)入半導(dǎo)體領(lǐng)域。ROHM公司采用先進(jìn)的生產(chǎn)技術(shù)生產(chǎn)電子元器件,包括一些最先進(jìn)的自動(dòng)化技術(shù),因此能夠始終處于元件制造業(yè)的最前列.收起

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