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[摘要] 沒(méi)有內(nèi)置于物理驗(yàn)證流程的可重復(fù)流程，物理 IP 的設(shè)計(jì)規(guī)則豁免可能很難進(jìn)行管理。通過(guò)芯片流片，在 IP 開(kāi)發(fā)階段的物理驗(yàn)證流程中嵌入 Calibre Auto-Waivers 自動(dòng)豁免方法，可確?；砻獾囊恢滦?，縮短調(diào)試時(shí)間，以及提供永

兩全其美 – 無(wú)折衷的先進(jìn)工藝寄生參數(shù)提取方法

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[摘要] 納米設(shè)計(jì)的復(fù)雜性日益增加，加上先進(jìn)制造工藝產(chǎn)生的新影響，給努力實(shí)現(xiàn)流片的設(shè)計(jì)工程師構(gòu)成了雙重威脅。要同時(shí)提供 FinFET 等詳細(xì) 3D 結(jié)構(gòu)必不可少的寄生參數(shù)提取精度，以及實(shí)現(xiàn)全芯片設(shè)計(jì)（在多個(gè)不同布線層上具有成百上千萬(wàn)個(gè)網(wǎng)絡(luò)）快速

十種常見(jiàn)的器件噪聲分析錯(cuò)誤

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[摘要] 器件噪聲的影響在納米級(jí) CMOS 工藝中極為關(guān)鍵，因?yàn)樗诟旧现萍s了許多 45 nm 及以下工藝電路的性能。當(dāng)給定正確的工具，器件噪聲分析 (DNA) 將是一個(gè)相當(dāng)簡(jiǎn)單的過(guò)程，并且仿真結(jié)果與硅測(cè)量結(jié)果只有 1 - 2 dB 的誤差。

使用 Calibre Pattern Matching 的復(fù)雜器件驗(yàn)證

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[摘要] 在版圖驗(yàn)證過(guò)程中，由于版圖放大、層衍生或數(shù)據(jù)分塊的影響，由精確多段多邊形組成的曲線和其他形狀可能會(huì)發(fā)生吸附。使用 Calibre Pattern Matching 驗(yàn)證這些復(fù)雜器件版圖可簡(jiǎn)化實(shí)施要求和下游支持工作。

加快移動(dòng)產(chǎn)品上市步伐

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[摘要] 計(jì)算機(jī)電子展 (CES) 依舊讓人驚嘆不已。展會(huì)中展出了 IoT 產(chǎn)品、可穿戴設(shè)備、二合一移動(dòng)電腦和發(fā)展飛速的智能手機(jī)，其中智能手機(jī)仍占據(jù)著移動(dòng)市場(chǎng)最大的份額。這些產(chǎn)品的核心部件是一個(gè)應(yīng)用程序處理器單元 (APU)，典型示例

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