有關(guān) High-Level Synthesis (HLS) 的 NVIDIA 案例分析
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[摘要] 通過(guò)采用應(yīng)用Mentor Graphics Catapult®的C++ High-Level Synthesis (HLS)流程,NVIDIA®能夠?qū)⒋a簡(jiǎn)化5倍,將回歸測(cè)試所需的CPU數(shù)量減少1000倍,并且運(yùn)行多達(dá)
馴服猛獸:低功耗設(shè)計(jì)和驗(yàn)證中的調(diào)試挑戰(zhàn)
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[摘要] 在芯片開發(fā)過(guò)程中,調(diào)試就要耗費(fèi)50%左右的開發(fā)時(shí)間和精力,這是一個(gè)不爭(zhēng)的事實(shí)。調(diào)試被認(rèn)為是半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)與驗(yàn)證行業(yè)面臨的最棘手挑戰(zhàn)之一。本文將全面分析低功耗設(shè)計(jì)和驗(yàn)證面臨的各種復(fù)雜調(diào)試問(wèn)題。我們將借助相關(guān)示例來(lái)說(shuō)明如何避免或輕松解決這
將圖形匹配與 DFM 屬性進(jìn)行集成,從而改善和優(yōu)化版圖
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[摘要] 隨著設(shè)計(jì)復(fù)雜性和規(guī)模的不斷增長(zhǎng),特別是在最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)上,圖形匹配的使用已擴(kuò)展到 DFM 流程中。將 Calibre Pattern Matching 功能與 DFM 操作相結(jié)合,可以給新設(shè)計(jì)帶來(lái)各種不同的改善和優(yōu)化選擇,包括填充方向、
在物理驗(yàn)證過(guò)程中實(shí)現(xiàn)最佳性能
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[摘要] 物理驗(yàn)證的生產(chǎn)率是一個(gè)多維度目標(biāo),需要應(yīng)用多種策略和技術(shù)來(lái)實(shí)踐。IC 設(shè)計(jì)公司必須不斷評(píng)估其工藝流程、數(shù)據(jù)管理和硬件使用情況,包括與 EDA 供應(yīng)商密切合作以確保實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、完整、先進(jìn)的工具覆蓋率,并整合新的技術(shù)功能來(lái)擴(kuò)展硬件能力和改善
多重曝光中的顏色優(yōu)化注意事項(xiàng)
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[摘要] 在先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)中,要實(shí)現(xiàn)最佳性能和良率,需要超越設(shè)計(jì)規(guī)則的最低要求來(lái)優(yōu)化版圖。任何多重曝光版圖都有多種能通過(guò)多重曝光設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC) 的著色配置。但是,選擇最佳著色方案可以提高制造良率和設(shè)計(jì)性能裕量。了解 Calibre Mu
Siemens Digital Industries Software簡(jiǎn)介
西門子數(shù)字化工業(yè)軟件致力于推動(dòng)數(shù)字化企業(yè)轉(zhuǎn)型,實(shí)現(xiàn)滿足未來(lái)需求的工程、制造和電子設(shè)計(jì)。西門子的Xcelerator 解決方案組合可幫助各類規(guī)模的企業(yè)創(chuàng)建并充分利用數(shù)字雙胞胎,為機(jī)構(gòu)帶來(lái)全新的洞察、機(jī)遇和自動(dòng)化水平,促進(jìn)創(chuàng)新。

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